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Auszeichnung für FJM-Abiturienten

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Auszeichnung für Poster über gemeinsame Forschungsarbeit von FJM-Abiturient und der Arbeitsgruppe Lemme bei Internationaler Tagung in den USA

[/vc_column_text][dt_gap height=”30″][vc_column_text]Bei der internationalen Tagung POLYCHAR 23 World Forum on Advanced Materials, die vom 11.-15. Mai 2015 an der University of Nebraska–Lincoln (USA) stattfand, wurde die Posterpräsentation der gemeinsamen Forschungsarbeit des Abiturienten Simon Schönherr (Fürst-Johann-Moritz-Gymnasium Siegen) mit der Arbeitsgruppe von Prof. Max Lemme, die bereits im Oberstufenpreiswettbewerb des VDI und der IHK prämiert wurde, mit einem Posterpreis ausgezeichnet.[/vc_column_text][/vc_column][vc_column width=”1/2″][dt_fancy_image type=”image” image=”https://www.fjm-siegen.de/wp-content/uploads/2015/06/Simon-Schönherr1.jpg” lightbox=”true” style=”1″ width=”full” padding=”10″ margin_top=”0″ margin_bottom=”0″ margin_left=”0″ margin_right=”0″ align=”left” animation=”none”][dt_gap height=”30″][vc_column_text]Investigation of Electronic Properties of a Graphene Field Effect Transistor

Simon Schönherr, Stefan Wagner, Himadri Pandey, Jasper Ruhkopf, und Max Lemme[/vc_column_text][/vc_column][/vc_row]